It-tagħmir tal-kisi tal-vakwu tal-evaporazzjoni tar-raġġ tal-elettroni huwa komunement użat għad-depożitu ta 'kisi AR/AF, inklużi films iebsin, films dekorattivi, films ITO, filtri bandpass, u films HR. Hija tiftaħar vantaġġi bħal effiċjenza għolja, kapaċità ta 'produzzjoni aktar b'saħħitha, u spejjeż ta' produzzjoni aktar baxxi. Għal films AR (trasmittanza tal-ħġieġ tas-sottostrat > 91.5%), fil-medda ta 'wavelength ta' 420-680nm, trażmissjoni medja ta '-naħa waħda> 95% u riflettanza <0.5% (medja). Trasmittanza medja b'żewġ naħat > 98% u riflettanza < 0.5% (medja). Għandha applikazzjonijiet wiesgħa tas-suq.
It-teknoloġija tal-kisi tal-evaporazzjoni bil-vakwu tinvolvi t-tqegħid tal-materjal li jevapora fi griġjol tal-azzar imkessaħ bl-ilma-u ssaħħan direttament b'raġġ tal-elettroni. Il-materjal li jevapora jivvaporizza u mbagħad jikkondensa fuq il-wiċċ tas-sottostrat biex jifforma film. Dan huwa metodu ta 'tisħin importanti u tendenza li qed tiżviluppa fit-teknoloġija tal-kisi tal-evaporazzjoni bil-vakwu. L-evaporazzjoni tar-raġġ tal-elettroni tegħleb ħafna żvantaġġi tal-evaporazzjoni tat-tisħin b'reżistenza konvenzjonali u hija partikolarment adattata għall-fabbrikazzjoni ta' materjali ta' film irqiq ta'-punt ta' tidwib-għoli u-purità għolja.
It-teknoloġija tal-evaporazzjoni bil-vakwu, li tiddependi fuq l-evaporazzjoni tal-bumbardament tar-raġġ tal-elettroni, tista 'tiġi kklassifikata aktar f'diversi tipi bbażati fuq il-forma tas-sors tal-evaporazzjoni tar-raġġ tal-elettroni, inklużi kanuni taċ-ċirku, pistoli dritti, pistoli tat-tip E-, u pistoli tal-elettroni tal-katodu vojt.
Ring gun jarmi raġġ ta' elettroni minn katodu forma ta' ċirku-. Wara li jkun iffukat u devjat, ir-raġġ jolqot griġjol, u jikkawża li l-metall jevapora. L-istruttura tagħha hija relattivament sempliċi, iżda l-qawwa u l-effiċjenza tagħha huma baxxi, u jagħmluha primarjament apparat tal-laboratorju; m'għadux jintuża fil-faċilitajiet tal-produzzjoni.
Pistola dritta hija aċċeleratur lineari assisimetriku fejn l-elettroni jiġu emessi mill-katodu tal-filament, iffukat f'raġġ fin, aċċellerat mill-anodu, u mbagħad jolqot griġjol, jiddewweb u jevapora l-materjal tal-kisi. Xkubetti dritti jvarjaw fil-qawwa minn diversi mijiet ta 'watts għal diversi mijiet ta' kilowatts; xi wħud jintużaw għall-evaporazzjoni bil-vakwu, filwaqt li oħrajn jintużaw għat-tidwib bil-vakwu. L-iżvantaġġi tal-pistoli dritti huma li l-materjal evaporat jista 'jikkontamina l-istruttura tal-pistola, u jikkawża instabbiltà operattiva. Barra minn hekk, jonji tas-sodju li joħorġu mill-filament jistgħu wkoll jikkontaminaw il-kisja. Riċentement, kumpanija tal-Ġermanja tal-Punent żviluppat verżjoni mtejba tal-pistola dritta billi żiedet kamp manjetiku li jdawwar fil-ħruġ tar-raġġ tal-elettroni u inkorporat sistema ta 'evakwazzjoni indipendenti fil-filament. Dan mhux biss jelimina kompletament il-kontaminazzjoni tal-filament tal-kisi iżda jtejjeb ukoll il-ħajja tal-pistola.
Il-kanun tal-elettroni tat-tip e-, b'deflessjoni ta' 270-grad, jegħleb in-nuqqasijiet tal-evaporazzjoni tal-elettroni tal--gun dritta u huwa wieħed mis-sorsi tal-evaporazzjoni tar-raġġ tal-elettroni l-aktar użati. L-e-electron gun jista 'jiġġenera densitajiet ta' qawwa għolja, jiddewweb metalli b'punt ta '-tidwib-għoli, u jipproduċi partiċelli ta' evaporazzjoni ta 'enerġija għolja, li jirriżulta f'rabta qawwija bejn il-film u s-sottostrat u kwalità tajba tal-film. L-iżvantaġġi huma li l-pistola elettronika teħtieġ vakwu għoli u vultaġġ għoli negattiv, li jwassal għal struttura ta 'tagħmir kumpless, sigurtà fqira, diffikultà fil-manutenzjoni, u spiża għolja.
Il-kanun tal-elettroni tal-katodu vojt juża raġġ tal-elettroni tal-plażma ġġenerat minn skarigu ta' katodu vojt ta'-vultaġġ baxx, għoli-kurrent bħala s-sors tat-tisħin tiegħu. Juża tubu tat-tantalu vojt bħala l-katodu, griġjol bħala l-anodu, u anodu awżiljarju ħdejn it-tubu tat-tantalu. Waqt id-depożizzjoni tal-fwar bl-użu tal-kanun elettroniku tal-katodu vojt, il-jonji tal-evaporazzjoni iġġenerati għandhom enerġija għolja u rata għolja ta 'jonizzazzjoni, li tirriżulta f'films ta'-kwalità għolja. Il-kanun tal-elettroni tal-katodu vojt jeħtieġ livell ta 'vakwu aktar baxx mill-kanun tal-elettroni tat-tip e-u jaħdem b'vultaġġ baxx, li jagħmel it-tagħmir relattivament aktar sempliċi, aktar sigur, u inqas għali. Bħalissa, kemm e-types kif ukoll hollow cathode electron guns ġew applikati b'suċċess f'tagħmir ta 'depożizzjoni tal-fwar u ta' kisi tal-jone f'pajjiżna. Il-qawwa tal-pistola tista 'tilħaq għexieren ta' eluf ta 'kilowatts, u diversi films irqaq ġew depożitati għal industriji bħal makkinarju u elettronika.
Il-vantaġġi tas-sors tal-evaporazzjoni fit-tagħmir tal-kisi tal-vakwu tal-evaporazzjoni tar-raġġ tal-elettroni huma:
1) Is-sors tas-sħana tal-bumbardament tar-raġġ ta 'l-elettroni għandu densità ta' kurrent ta 'raġġ għoli, u jikseb densità ta' enerġija ferm ogħla minn sorsi ta 'tisħin tar-reżistenza. Jista 'jevapora materjali sa 3000 grad Celsius b'rata ta' evaporazzjoni għolja;
2) Peress li l-materjal li qed jiġi evaporat jitqiegħed fi griġjol imkessaħ bl-ilma-, l-evaporazzjoni tal-materjal tal-kontenitur u r-reazzjonijiet bejn il-materjal tal-kontenitur u l-materjal tal-evaporazzjoni huma evitati, li hija kruċjali għat-titjib tal-purità tal-kisi;
3) Is-sħana tista 'tiġi applikata direttament fuq il-wiċċ tal-materjal tal-evaporazzjoni, li tirriżulta f'effiċjenza termali għolja u telf minimu permezz tal-konduzzjoni tas-sħana u r-radjazzjoni.
