Materjali tal-film li jiddepożitaw-fwar bi pressjoni normali ma jiffurmawx films irqaq ideali. Fil-fatt, jekk il-pressjoni ma tkunx baxxa biżżejjed (jew il-vakwu ma jkunx għoli biżżejjed), lanqas ma jinkisbu riżultati tajbin. Pereżempju, meta l-fwar-depożita l-aluminju f'10 2 Torr, il-film li jirriżulta mhux biss ikun matt, iżda jista' saħansitra jidher griż jew iswed. Is-saħħa mekkanika tagħha hija estremament fqira, u tfarfir ħafif b'pinzell tax-xagħar tal-iskojjattlu- jista 'jagħmel ħsara lis-saff tal-aluminju.
Id-depożizzjoni tal-fwar għandha titwettaq taħt ċerti kundizzjonijiet tal-vakwu għar-raġunijiet li ġejjin:
1. Vakwu għoli jiżgura li l-molekuli ħielsa medja tal-molekuli vaporizzati hija akbar mid-distanza mis-sors ta 'evaporazzjoni għas-sottostrat. Minħabba l-moviment termali tal-molekuli tal-gass, il-ħabtiet bejniethom huma estremament frekwenti. Għalhekk, minkejja l-veloċità għolja tal-molekuli tal-gass (sa diversi mijiet ta 'metru kull sekonda), dawn jaħbtu ma' molekuli oħra diversi drabi hekk kif jimxu 'l quddiem. Id-distanza li tivvjaġġa molekula bejn żewġ ħabtiet konsekuttivi tissejjaħ il-mogħdija ħielsa tagħha, u l-medja statistika tal-mogħdijiet ħielsa ta 'numru kbir ta' molekuli tissejjaħ il-mogħdija ħielsa medja.
Peress li l-pressjoni tal-gass hija proporzjonali għan-numru ta 'molekuli għal kull unità ta' volum, il-mogħdija ħielsa medja hija wkoll proporzjonali għall-pressjoni tal-gass. Waqt id-depożizzjoni tal-film irqiq bil-vakwu, meta d-distanza tad-depożizzjoni tkun akbar mill-molekuli ħielsa medja, tissejjaħ depożizzjoni baxxa fil-vakwu, filwaqt li meta d-distanza tad-depożizzjoni tkun inqas mill-mogħdija ħielsa medja tal-molekuli, tissejjaħ depożizzjoni għolja fil-vakwu. Waqt id-depożizzjoni b'vakwu għoli, il-ħabtiet bejn l-atomi (jew molekuli) evaporati u l-molekuli tal-gass residwu huma negliġibbli, għalhekk l-atomi vaporizzati jtiru f'linja dritta lejn is-sottostrat. Dan jippermetti li l-atomi vaporizzati, li jilħqu s-sottostrat b'enerġija kinetika għolja, jikkondensaw fuq is-sottostrat biex jiffurmaw saff tal-film relattivament qawwi. Waqt id-depożizzjoni b'vakwu baxx, il-ħabtiet jistgħu jikkawżaw li l-atomi vaporizzati jbiddlu l-veloċità u d-direzzjoni tagħhom, potenzjalment saħansitra jiffurmaw ġabra ta 'atomi tal-fwar fl-ispazju-simili għall-formazzjoni taċ-ċpar mill-fwar tal-ilma fl-atmosfera.
2. Livell ta 'vakwu ogħla jista' jnaqqas il-kontaminazzjoni tal-gass residwu. F'livelli ta' vakwu aktar baxxi, il-kamra tal-vakwu fiha bosta molekuli ta' gass residwu (bħal ossiġnu, nitroġenu, ilma, u idrokarburi), li jistgħu jkunu ta' theddida sinifikanti għad-depożizzjoni ta' film irqiq-. Dawn il-gassijiet jaħbtu ma 'molekuli tal-film vaporizzat, u jqassru l-mogħdija ħielsa medja tagħhom; jaħbtu ma 'u jirreaġixxu mal-wiċċ tal-film li qed jiġi ffurmat; huma jiddepożitaw fi ħdan il-film diġà ffurmat, gradwalment jonqsuh; jirreaġixxu mas-sors ta 'evaporazzjoni f'temperaturi għoljin, u jnaqqsu l-ħajja tas-servizz tiegħu; u jiffurmaw saff ta 'ossidu fuq il-wiċċ tal-film evaporat, li jfixkel il-proċess ta' depożizzjoni.
Għalhekk, il-magna tal-kisi tal-vakwu tal-evaporazzjonigħandu jkun fi stat vakwu biex jiksi s-saff tal-film, sabiex is-saff tal-film ikun sod u ħieles minn sustanzi li jniġġsu.
